Głównym problemem związanym z suszeniem rozpyłowym są powstające zanieczyszczenia spowodowane lepkością produktu. Zanieczyszczenie takie powoduje zmniejszenie wydajności pracy a nawet może blokować urządzenie grudkami proszku. Ulepszona kontrola procesu poprzez pomiary wilgotności może zminimalizować zanieczyszczenie, wydłużyć czas między czyszczeniem CIP i uniknąć zablokowania suszarki. To z kolei spowoduje wzrost wydajności, a także bezpieczne przetwarzanie produktu.
Dokładny i niezawodny pomiar wilgotności bezwzględnej w podwyższonych temperaturach i przy dużym zapyleniu zawsze stanowił wyzwanie dla użytkowników końcowych. Technologia pomiaru wilgotności względnej i punktu rosy za pomocą czujników pojemnościowych okazała się niedokładna i zawodna w tych wymagających zastosowaniach. Ponadto obliczenia czujników programowych (bilans materiałowy, przepływ, gęstość) H2O zależą od zbyt wielu parametrów i często są uważane za nieprecyzyjne.
HICOSYS AQUA jest w stanie dokonywać pomiarów w najbardziej wymagających lokalizacjach, takich jak
rurociąg podawania powietrza do wieży, nawet przed filtracją przez cyklony i/lub filtry workowe.
HICOSYS AQUA oparty na technologii TDL (tunable diode laser) mierzy sekwencyjnie oba strumienie próbek. Operator otrzymuje ciągłe informacje i aktualizacje stężenia H2O w obu strumieniach próbek, podane w % obj. lub g/kg suchego powietrza. Opatentowana koncepcja pobierania próbek pod niskim ciśnieniem zapobiega kondensacji wody, eliminując konieczność śledzenia próbek.
ZALETY
- Poprawa wydajności procesów
- Zaawansowana analiza oparta na technologii TDL
- Pobieranie próbek z wielu punktów, do 2 strumieni
- Niezrównane możliwości pobierania próbek (wysoka temperatura, przed cyklonami/filtrami workowymi)
- Sondy zgodne z CIP i ATEX
- Zaawansowane rejestrowanie zdarzeń i alarmów
